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Intel公司日前透露,他們在半導體新材料的研究上又取得了重大突破,使用混合元素材料制造出了硅基P-Channel晶體管。
該混合材料又被稱為Group III-V材料,因為它包含化學元素周期表中III族到V族的多種元素,而傳統的硅(IV族元素)晶體管也因此被稱為Group IV材料。
一年前,Intel同樣使用Group III-V材料,制造出了硅基N-Channel晶體管。而N-Channel和P-Channel晶體管正是CMOS電路的兩大組成部分,因此現在新材料P-Channel晶體管的誕生標志著Intel已經可以使用Group III-V新材料制造實際電路。
Intel表示,新混合材料制成的P-Channel晶體管性能前所未有。和去年研發的新材料N-Channel晶體管一起制成的半導體電路,其需要的電壓只是現有產品的一半,功耗更是只有當前處理器的十分之一,前景十分廣闊。